现在的光刻机还是很原始的，这两台dc400，首先把放在玻璃夹子里面的底片，扣好。
就像洗照片一样按照光刻胶上的图案进行“刻蚀“，就是倒进铁水……不是啦，那些元素的离子。
叶回舟觉得这工艺，就跟往车子上喷字很像，也和他在东方红做集成电路板很像。
这工艺比较简单，只要是干电子厂倒模刻蚀的人都会了。
在微光电子厂的芯片车间制造一些芯片时，高工就是这样干的，只不过没有无尘车间，封装时良品率极低。
高工跟他讲，在20年前就出现了光刻机这种类型的设备，开始是上百微米，后来是几微米。
这种工艺最高级的可以做到刻出1微米的字。
人的头发直径是60-90微米，有的人认为这太精细了，够用了够用了。
高兴不了多久就高兴不起来了。
还是不够用，还要细才行。
但是老工艺接触式光刻，到此到头了。
再细，不行了，那就涉及纳米级别。
1微米=1000纳米。
据传闻现在，魔都电子研究所已经开发出纳米级别的光刻机，至于是不是真的，反正叶回舟也得不到。
摩尔定律为芯片产业的发展指明了道路和奋斗目标，芯片制程的演化，从微米、亚微米、深亚微米，到193nm、157nm、90nm。
再到叶回舟穿过来已经有，12nm、7nm、4nm，甚至连1nm都在研制中。
这也肯定了，这几十年半导体还是按照摩尔定律演进。
当然随着硅基芯片进入10nm以下，越来越接近物理极限，摩尔定律即将在硅基芯片上失效。