除了光源外，光刻机的物镜也决定了光刻机能使用的波长，波长越小约精细，所谓几纳米制程，其实就是波长，也就是相邻晶体管的距离。
相邻晶体管距离越小，一块芯片集成的晶体管就越多，速度也就越快。
但再小也不能小过波长。
所以到了2022年，决定芯片精度的，已经不是光刻机的定位能力了，而是光源的波长。
波长其实就与物镜表面粗糙度有关，显然表面粗糙度必须远远低于波长，才可能正确地将极紫外光正确投射。
2022年，物镜的粗糙度达到20埃米，也就是0.02纳米，达到了原子级别的平坦。
结果就是光源到了极限，毕竟极紫外光的波长是物理规律。
除非改变物理规律，否则再先进的技术也突破不了。
所以很多人对追赶asml没信心，其实大可不必，因为这门技术目前已经受限于波长无法突破了，以后还得看量子计算机。
超精密光学镜头，也是光刻机核心技术之一，为此，必须采用加工技术的基础是计算机数控光学表面成形技术。
这项技术由几个部分组成，一个是小磨头抛光技术，是使用一个比工件口径小得多的磨头，对工件进行抛光。
这个小磨头，通过控制磨头在工件表面不同位置的驻留时间，以及磨头与工件之间的压强，来控制材料去除量。
当然在磨之前，肯定是对镜头进行了纳米级别的数学建模分析，工作量和精细程度，想想都觉得吓人，堪称八级工手搓部件的升级版。
幸好这种技术只用在光刻机身上，否则这么抠法，哪儿干得过来。
这样能够实现数十纳米级的加工精度。
还有更先进的技术，是应力盘抛光。
这个抛光盘，在计算机控制下可根据要加工的形状实时变形，实现抛光盘与工件的完全贴合。
第三步是更加变态的磁流变抛光，它使用具有磁流变效应的特殊抛光液，作为抛光材料。
这种抛光液，含有无磁性的抛光粉和磁性的铁粉，
在无磁场时表现为常规的液体状态，
而在磁场作用下，铁粉会定向排列，使抛光液表现出类固体性质。
磁流变抛光液，会被吸附在带磁场的抛光轮上，形成一层柔性抛光模。
抛光膜随抛光轮的转动与工件接触，对工件表面进行塑性剪切去除。抛光模的刚度和韧性等参数，可以通过磁场大小，进行实时精确调控，与工件表面始终紧密贴合，可将面型精度提高到纳米级。
最后的技术是离子束抛光技术，可将镜头的精度提升到亚纳米级。
它的原理，是在真空条件下，利用电场将氩气等惰性气体电离为离子。
离子轰击工件表面，将表面原子去除。
这是一种原子量级的加工手段，可以达到原子级的精度和表面粗糙度，与工件之间没有机械接触，是目前最先进的光学元件加工技术。
这其实是一种科研手段了，都不是普通硕士博士能接触到的，也只能用在光刻机裏。
可想而知，一个个原子抠，是闫埠贵也受不了的，
所以离子束抛光的加工效率极为低下，一般作为最后一道精确修形的手段。